Decreasing contact resistance in organic field effect transistors using oxides as interfacial layers

Type de document :
Communication dans un congrès
11th International Thin-Film Conference, 2015, Rennes, France
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Contributeur : Isabelle Dufour <>
Soumis le : mercredi 14 décembre 2016 - 16:58:13
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:21:09

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  • HAL Id : hal-01416670, version 1

Citation

Geoffroy Houin, Mamatimin Abbas, Claude Pellet, Frédéric Duez, Luc Garcia, et al.. Decreasing contact resistance in organic field effect transistors using oxides as interfacial layers. 11th International Thin-Film Conference, 2015, Rennes, France. 〈hal-01416670〉

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