Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01374747
Soumis le : samedi 1 octobre 2016-07:31:23
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01374747 , version 1
Citer
Remi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux. Cryogenic processes for advanced material plasma etching
. Quo vadis : Complex plasmas - TR 24, Aug 2016, Hambourg, Germany. ⟨hal-01374747⟩
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