Deep metal deposition in a porous matrix by High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS), porous substrates impregnated with metal catalyst and uses thereof

DEPOT METALLIQUE PROFOND DANS UNE MATRICE POREUSE PAR PULVERISATION MAGNETRON PULSEE HAUTE PUISSANCE HIPIMS, SUBSTRATS POREUX IMPREGNES DE CATALYSEUR METALLIQUE ET LEURS UTILISATIONS

Stéphane Cuynet (1) , Amaël Caillard (1) , Pascal Brault (1) , Jannick Bigarre (2) , Pierrick Buvat (2)

1 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
2 CEA Le Ripault - CEA Le Ripault

Domaines: Plasmas; Matériaux

Stéphane Cuynet, Amaël Caillard, Pascal Brault, Jannick Bigarre, Pierrick Buvat. Deep metal deposition in a porous matrix by High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS), porous substrates impregnated with metal catalyst and uses thereof . France, Patent n° : FR1400306 / WO2015114168A1 (extension internationale du 06/08/2015). 2014. ⟨hal-01356832⟩