Analysis of laser energy deposition leading to damage and ablation of HfO2 and Nb2O5 single layers submitted to 500 fs pulses at 1030 and 343 nm - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied physics. A, Materials science & processing Année : 2016

Analysis of laser energy deposition leading to damage and ablation of HfO2 and Nb2O5 single layers submitted to 500 fs pulses at 1030 and 343 nm

Dam-Bé Douti
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ILM
Thomas Begou
  • Fonction : Auteur
Fabien Lemarchand
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 846494
Julien Lumeau
Mireille Commandre
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832173
ILM
Laurent Gallais
ILM
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Dates et versions

hal-01341559 , version 1 (04-07-2016)

Identifiants

Citer

Dam-Bé Douti, Thomas Begou, Fabien Lemarchand, Julien Lumeau, Mireille Commandre, et al.. Analysis of laser energy deposition leading to damage and ablation of HfO2 and Nb2O5 single layers submitted to 500 fs pulses at 1030 and 343 nm. Applied physics. A, Materials science & processing, 2016, 122, pp.653. ⟨10.1007/s00339-016-0197-2⟩. ⟨hal-01341559⟩
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