Understanding the phase formation of reactively sputtered zirconium oxide thin films: a joint experimental and theoretical study

Raza Muhsin 1, 2 Cornil D. 2 Cornil J. 2 Anne-Lise Thomann 3 Amaël Caillard 3 El Mokh Mariem 3 Eric Gautron 4 El Mel A.A. 4 Lucas S. 5 Rony Snyders 1, 6 Stephanos Konstantinidis 1
1 ChIPS - Chimie des Interactions Plasma-Surface (ChIPS)
2 Service de Chimie des Matériaux Nouveaux, CIRMAP, University of Mons
3 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
4 IMN - Institut des Matériaux Jean Rouxel
5 Université de Namur [Namur]
6 MNRC - Materia Nova Research Center
Type de document :
Poster
Liste complète des métadonnées
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01290636
Contributeur : Anne-Lise Thomann <>
Soumis le : vendredi 18 mars 2016 - 12:37:10
Dernière modification le : jeudi 5 décembre 2019 - 11:30:09

Identifiants

  • HAL Id : hal-01290636, version 1

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CNRS | UNIV-ORLEANS | IMN | UNIV-NANTES | PCM | INC-CNRS | GREMI

Citation

Raza Muhsin, Cornil D., Cornil J., Anne-Lise Thomann, Amaël Caillard, et al.. Understanding the phase formation of reactively sputtered zirconium oxide thin films: a joint experimental and theoretical study. European Material Research Society (E-MRS 2015) Spring Meeting , May 2015, Lille, France. ⟨hal-01290636⟩

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