Understanding the phase formation of reactively sputtered zirconium oxide thin films: a joint experimental and theoretical study
Raza Muhsin
(1, 2)
,
Cornil D.
(2)
,
Cornil J.
(2)
,
Anne-Lise Thomann
(3)
,
Amaël Caillard
(3)
,
El Mokh Mariem
(3)
,
Eric Gautron
(4)
,
El Mel A.A.
(4)
,
Lucas S.
(5)
,
Rony Snyders
(1, 6)
,
Stephanos Konstantinidis
(1)
1
ChIPS -
Chimie des Interactions Plasma-Surface (ChIPS)
2 Service de Chimie des Matériaux Nouveaux, CIRMAP, University of Mons
3 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
4 IMN - Institut des Matériaux Jean Rouxel
5 UNamur - Université de Namur [Namur]
6 MNRC - Materia Nova Research Center
2 Service de Chimie des Matériaux Nouveaux, CIRMAP, University of Mons
3 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
4 IMN - Institut des Matériaux Jean Rouxel
5 UNamur - Université de Namur [Namur]
6 MNRC - Materia Nova Research Center
Amaël Caillard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180317
- IdHAL : amael-caillard
- ORCID : 0000-0001-9540-1381
- IdRef : 120995565