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Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Hot target magnetron sputtering: the influence of the magnetron target temperature on the sputtering process

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01289478 , version 1 (16-03-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01289478 , version 1

Citer

El Mokh Mariem, Amaël Caillard, Thomas Lecas, Nadjib Semmar, Anne-Lise Thomann. Hot target magnetron sputtering: the influence of the magnetron target temperature on the sputtering process . European Material Research Society (E-MRS 2015) Spring Meeting , May 2015, Lille, France. ⟨hal-01289478⟩
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