Cryoetching processes applied to ULK material

Floriane Leroy (1) , Thomas Tillocher (1) , Philippe Lefaucheux (1) , Remi Dussart (1) , Koichi Yatsuda (2) , Kaoru Maekawa (2) , Christian Dussarrat (3) , Jean-Francois de Marneffe (4) , Mikhail Baklanov (4)

1 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
2 TEL - Tokyo Electron
3 CTAS - Centre Technique des Applications du Soudage
4 IMEC - IMEC

Domaines: Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Floriane Leroy, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Koichi Yatsuda, et al.. Cryoetching processes applied to ULK material. 37th International Symposium on Dry Process (DPS 2015), Nov 2015, Awaji Island, Japan. ⟨hal-01228477⟩