Bulk titanium deep etching by plasma processes - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01166023 , version 1 (22-06-2015)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01166023 , version 1

Citer

Edouard Laudrel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Remi Dussart. Bulk titanium deep etching by plasma processes. , 20th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), Jun 2015, Saint-Etienne, France. ⟨hal-01166023⟩
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