Effect of reactive magnetron sputtering parameters on structural and dielectric properties of (Sr_1-xLa_x)₂(Ta_1-xTi_x)₂O_pN_q oxide and oxynitride thin films

Laurent Le Gendre (1) , Simon Jacq (1) , Claire Le Paven-Thivet (1) , Ratiba Benzerga (1) , Meriem Bouchilaoun (1) , Stéphane Traore Mantion (1) , Franck Tessier (2) , François Cheviré (2) , Ala Sharaiha (1) , Xavier Castel (1)

1 IETR - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique
2 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes

Domaines: Matériaux

Laurent Le Gendre, Simon Jacq, Claire Le Paven-Thivet, Ratiba Benzerga, Meriem Bouchilaoun, et al.. Effect of reactive magnetron sputtering parameters on structural and dielectric properties of (Sr_1-xLa_x)₂(Ta_1-xTi_x)₂O_pN_q oxide and oxynitride thin films. Séminaire sur invitation, Prof. Moriga - Université de Tokushima, Oct 2014, Tokushima, Japan. ⟨hal-01109307⟩