Thermomechanical stress analysis of copper/silicon interface in Through Silicon Vias using FEM simulations and experimental analysis - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01067621 , version 1 (23-09-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01067621 , version 1

Citer

Z. Remili, Y. Ousten, B. Levrier, D. Mercier, E. Suhir, et al.. Thermomechanical stress analysis of copper/silicon interface in Through Silicon Vias using FEM simulations and experimental analysis. ESTC 2014 5th Electronics System-Integration Technology Conference, Sep 2014, Helsinki, Finland. pp.S93P5. ⟨hal-01067621⟩
107 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More