Submicrometric structured silicon surfaces obtained from polymer blend film by silica replication and cryogenic plasma etching - Archive ouverte HAL

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Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Submicrometric structured silicon surfaces obtained from polymer blend film by silica replication and cryogenic plasma etching

(1, 2) , (3) , (3) , (2) , (2)

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Alexane Vital

Fonction : Auteur

Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

Centre de Recherche sur la Matière Divisée

Thomas Tillocher

Fonction : Auteur
PersonId : 7479
IdHAL : thomas-tillocher
ORCID : 0000-0002-9160-5595
IdRef : 120339072

Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

Remi Dussart

Fonction : Auteur
PersonId : 4419
IdHAL : remi-dussart

Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

Marylène Vayer

Fonction : Auteur
PersonId : 751593
IdHAL : marylene-vayer

Centre de Recherche sur la Matière Divisée

Christophe Sinturel

Fonction : Auteur
PersonId : 751459
IdHAL : christophe-sinturel
ORCID : 0000-0002-9528-2797
IdRef : 167089854

Centre de Recherche sur la Matière Divisée

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01057586

Soumis le : dimanche 24 août 2014-12:31:28

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:59

Dates et versions

hal-01057586 , version 1 (24-08-2014)

Identifiants

HAL Id : hal-01057586 , version 1

Citer

Alexane Vital, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Marylène Vayer, Christophe Sinturel. Submicrometric structured silicon surfaces obtained from polymer blend film by silica replication and cryogenic plasma etching. Plasma Etch and Strip in Microtechnology, May 2014, Grenoble, France. ⟨hal-01057586⟩

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