Multiscale etching of holes by cryogenic silicon etching

Thomas Tillocher (1) , Xiao Liu (2) , Alexane Vital (2, 3) , Nicolas Gosset (2) , Philippe Lefaucheux (2) , Marylène Vayer (3) , Christophe Sinturel (3) , Mohamed Boufnichel (4) , Remi Dussart (1)

1 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
2 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
3 CRMD - Centre de Recherche sur la Matière Divisée
4 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]

Domaines: Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Thomas Tillocher, Xiao Liu, Alexane Vital, Nicolas Gosset, Philippe Lefaucheux, et al.. Multiscale etching of holes by cryogenic silicon etching. Plasma Etch and Strip in Microtechnology, May 2014, Gernoble, France. ⟨hal-01057242⟩