Dry deep etching of GaN wide band-gap Semiconductor - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01057235 , version 1 (21-08-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01057235 , version 1

Citer

Nicolas Gosset, Julien Ladroue, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. Dry deep etching of GaN wide band-gap Semiconductor. AVS 60th International Symposium & Exhibition, Oct 2013, Long Beach, United States. ⟨hal-01057235⟩
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