Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01056603
Soumis le : mercredi 20 août 2014-11:14:55
Dernière modification le : jeudi 23 novembre 2023-10:48:07
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01056603 , version 1
Citer
Mikhail Baklanov, Liping Zhang, Jean-Francois de Marneffe, Remi Dussart. Damage Free Cryogenic Etching of Ultra Low-k Materials. International Interconnect Technology Conference, Jun 2013, Kyoto, Japan. ⟨hal-01056603⟩
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