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Journal articles
Hyperbranched Polymers for Photolithographic Applications - Towards Understanding the Relationship between Chemical Structure of Polymer Resin and Lithographic Performances
Christos L. Chochos
1
Esma Ismailova
1
Cyril Brochon
2, 3
Nicolas Leclerc
1
Raluca Tiron
4
Claire Sourd
4
Philippe Bandelier
4
Johann Foucher
5
Hassan Ridaoui
6
Ali Dirani
6
Olivier Soppera
7
Damien Perret
8
Christophe Brault
1, 8
Christophe Serra
1
Georges Hadziioannou
2, 3
2
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
LCPO - Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques
Christos L. Chochos 1
Author
Esma Ismailova 1
Author
Cyril Brochon 2, 3
Author
Nicolas Leclerc 1
Author IdHAL : leclercn
Hassan Ridaoui 6
Author
Ali Dirani 6
Author
Olivier Soppera 7
Author IdHAL : olivier-soppera ORCID : https://orcid.org/0000-0001-5250-2254
Damien Perret 8
Author
2
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies (Université de Bordeaux, Allée Geoffroy Saint Hilaire, Bâtiment B8, CS50023, 33615 Pessac cedex - France)
- LCPO - Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques (16, Avenue Pey Berland 33607 PESSAC CEDEX - France)
- UB - Université de Bordeaux (35, place Pey Berland - 33076 Bordeaux - France)
- Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP) (France)
- Institut Polytechnique de Bordeaux (146, rue Léo Saignat, 33076 Bordeaux - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR5629 (France)
3
LCPO - Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques (16, Avenue Pey Berland 33607 PESSAC CEDEX - France)
- UB - Université de Bordeaux (35, place Pey Berland - 33076 Bordeaux - France)
- Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP) (France)
- Institut Polytechnique de Bordeaux (146, rue Léo Saignat, 33076 Bordeaux - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR5629 (France)
4
CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (MINATEC 17, rue des Martyrs, 38054, Grenoble Cedex 9 - France)
- DRT (CEA) - Direction de Recherche Technologique (CEA) : DRT (France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives : DRT (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
5
Lithography Laboratory (17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9 - France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives : LETI-MINATEC (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
6
PHOTON LRC 7228 - Photomatériaux pour l'Optique et les Nanotechnologies (IS2M 15 rue Jean Starcky 68057 Mulhouse - France)
- Université de Haute-Alsace (UHA) - Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (2, rue des Frères Lumière F-68093 Mulhouse Cedex - France)
7
DPG - Département de Photochimie Générale (3 Rue Alfred Werner 68093 MULHOUSE CEDEX - France)
- Université de Haute-Alsace (UHA) - Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (2, rue des Frères Lumière F-68093 Mulhouse Cedex - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR7525 (France)
8
Rohm et Haas Electronic Materials (17 rue des Martyrs Grenoble, 38054 Grenoble - France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
Abstract : A chemically amplified resist based on a hyperbranched polymer resin is demonstrated for the first time. The hyperbranched polymer is synthesized using the atom-transfer radical polymerization (ATRP) technique, and resists prepared from this hyperbranched polymer present good pattern profiles and line-edge roughness (3 sigma) values comparable to those of the reference (commercial) resist.
Document type :
Journal articles
Domain :
Complete list of metadata
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00945178
Contributor : Dominique Richard <>
Submitted on : Tuesday, February 11, 2014 - 5:34:41 PM
Last modification on : Monday, November 16, 2020 - 11:56:03 AM
Contributor : Dominique Richard <>
Submitted on : Tuesday, February 11, 2014 - 5:34:41 PM
Last modification on : Monday, November 16, 2020 - 11:56:03 AM
Identifiers
- HAL Id : hal-00945178, version 1
- DOI : 10.1002/adma.200801715
Citation
Christos L. Chochos, Esma Ismailova, Cyril Brochon, Nicolas Leclerc, Raluca Tiron, et al.. Hyperbranched Polymers for Photolithographic Applications - Towards Understanding the Relationship between Chemical Structure of Polymer Resin and Lithographic Performances. Advanced Materials, Wiley-VCH Verlag, 2009, 21 (10-11), pp.1121-1125. ⟨10.1002/adma.200801715⟩. ⟨hal-00945178⟩
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