Analysis of water adsorption in plasma-damaged porous low-k dielectric by controlled-atmosphere infrared spectroscopy - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2013

Analysis of water adsorption in plasma-damaged porous low-k dielectric by controlled-atmosphere infrared spectroscopy

Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
C. Licitra
N. Rochat
  • Fonction : Auteur
J. Zocco
  • Fonction : Auteur
T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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Soumis le : mercredi 8 janvier 2014-10:54:31

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hal-00925515 , version 1 (08-01-2014)

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Citer

Maxime Darnon, C. Licitra, N. Rochat, J. Zocco, T. Chevolleau. Analysis of water adsorption in plasma-damaged porous low-k dielectric by controlled-atmosphere infrared spectroscopy. Journal of Vacuum Science and Technology, 2013, pp.B 31(6). ⟨10.1116/1.4827252⟩. ⟨hal-00925515⟩

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