Deposition of SiO2 in integrated distributed electron cyclotron resonance microwave reactor - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 1997

Deposition of SiO2 in integrated distributed electron cyclotron resonance microwave reactor

Pavel Bulkin
Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]
N. Bertrand
  • Fonction : Auteur
Bernard Drévillon
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 866878
Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

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Soumis le : samedi 7 décembre 2013-16:31:18

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:58

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Dates et versions

hal-00915373 , version 1 (07-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00915373 , version 1

Citer

Pavel Bulkin, N. Bertrand, Bernard Drévillon. Deposition of SiO2 in integrated distributed electron cyclotron resonance microwave reactor. Thin Solid Films, 1997, pp.66-68. ⟨hal-00915373⟩

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