Deposition of microcrystalline silicon in an integrated distributed electron cyclotron resonance PECVD reactor - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 1999

Deposition of microcrystalline silicon in an integrated distributed electron cyclotron resonance PECVD reactor

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Pavel Bulkin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00915359

Soumis le : samedi 7 décembre 2013-15:54:58

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:58

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00915359 , version 1 (07-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00915359 , version 1

Citer

Pavel Bulkin, A. Hofrichter, Romain Brenot, Bernard Drévillon. Deposition of microcrystalline silicon in an integrated distributed electron cyclotron resonance PECVD reactor. Thin Solid Films, 1999, pp.37-40. ⟨hal-00915359⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

X CNRS X-PICM X-DEP-PHYS LPICM
81 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More