Phononic engineering of silicon using dots on the fly 'electron beam lithography and plasma etching' - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Phononic engineering of silicon using dots on the fly 'electron beam lithography and plasma etching'

V. Lacatena
  • Fonction : Auteur
M. Haras
  • Fonction : Auteur
J.F. Robillard
CV
S. Monfray
  • Fonction : Auteur
T. Skotnicki
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
CV

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https://hal.science/hal-00878809

Soumis le : jeudi 31 octobre 2013-09:08:23

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00878809 , version 1 (31-10-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00878809 , version 1

Citer

V. Lacatena, M. Haras, J.F. Robillard, S. Monfray, T. Skotnicki, et al.. Phononic engineering of silicon using dots on the fly 'electron beam lithography and plasma etching'. 39th International Conference on Micro and Nano Engineering, MNE 2013, 2013, London, United Kingdom. ⟨hal-00878809⟩

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