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Communication Dans Un Congrès Année : 2004

Impact of the use of the second harmonic CW Nd:YVO4 laser to crystallize amorphous silicon films on the TFT performance

Katell Kervella  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00870772

Soumis le : mardi 8 octobre 2013-10:01:19

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:57

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Dates et versions

hal-00870772 , version 1 (08-10-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00870772 , version 1

Citer

Amar Saboundji, Jean-François Michaud, Tayeb Mohammed-Brahim, Olivier Bonnaud, G. Andrä, et al.. Impact of the use of the second harmonic CW Nd:YVO4 laser to crystallize amorphous silicon films on the TFT performance. Proceedings of International Conference on AM-LCD 2004, Aug 2004, Tokyo, Japan. ⟨hal-00870772⟩

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