Optimisation du procédé de sérigraphie pour la réalisation d'élements sensibles de capteurs de gaz
Résumé
La réalisation d'éléments sensibles de capteurs de gaz par la technologie sérigraphie apparaît être une solution qui répond au cahier des charges: faibles coûts, production de masse avec bonne reproductibilité et stabilité des capteurs. De plus, les technologies micro-électroniques sont de plus en plus utilisées pour la fabrication de micro-capteurs ce qui permet une diminution des puissances de chauffage et une miniaturisation des capteurs dans l'objectif de produire des dispositifs multi-capteurs. L'objectif de cette étude est d'optimiser les compositions des encres de sérigraphie et les paramètres de dépôt de couches SnO2 sur des substrats de type wafer de silicium pour améliorer les performances électriques des capteurs (conductance et stabilité) et les propriétés d'adhésion entre les couches de SnO2 et les substrats.