Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2012
Sylvie Garcia : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00815148
Soumis le : jeudi 18 avril 2013-11:31:13
Dernière modification le : jeudi 8 février 2024-15:04:06
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00815148 , version 1
- DOI : 10.1088/0022-3727/45/21/215306
Citer
Abdelkader Kahouli, Alain Sylvestre, Sébastien Pairis, Jean-Luc Garden, Emmanuel André, et al.. Effect of O2, Ar/H2 and CF4 plasma treatments on the structural and dielectric propoerties of parylene-C thin films. Journal of Physics D: Applied Physics, 2012, 45 (21), pp.215306. ⟨10.1088/0022-3727/45/21/215306⟩. ⟨hal-00815148⟩
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