Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers

C. Simao; N. Kehagias; D. Borah; B. Kosmala; M. Salaun; M. Zelsmann; M. A. Morris; C. M. Sotomayor Torres

Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers

, , , , (1) , (1) , ,

1

C. Simao

Fonction : Auteur

N. Kehagias

Fonction : Auteur

D. Borah

Fonction : Auteur

B. Kosmala

Fonction : Auteur

M. Salaun

Fonction : Auteur
PersonId : 17040
IdHAL : mathieu-salaun
ORCID : 0000-0002-1513-9000

Laboratoire des technologies de la microélectronique

CV

M. Zelsmann

Fonction : Auteur
PersonId : 740118
IdHAL : marc-zelsmann
ORCID : 0000-0002-7619-4871
IdRef : 07808198X

Laboratoire des technologies de la microélectronique

M. A. Morris

Fonction : Auteur

C. M. Sotomayor Torres

Fonction : Auteur

Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00809073

Soumis le : lundi 8 avril 2013-14:24:45

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:13

Dates et versions

hal-00809073 , version 1 (08-04-2013)

Identifiants

HAL Id : hal-00809073 , version 1

Citer

C. Simao, N. Kehagias, D. Borah, B. Kosmala, M. Salaun, et al.. Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers. Micro- and Nano-Engineering conference- MNE 2012, Sep 2012, Toulouse, France. ⟨hal-00809073⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS FMNT LTM LITHOGRAPHY

49 Consultations

0 Téléchargements

Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers

Dates et versions

Identifiants

Citer

Exporter

Collections

Partager