Improvements of high performance 2-nm-thin InAlN/AlN barrier devices by interface engineering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Improvements of high performance 2-nm-thin InAlN/AlN barrier devices by interface engineering

C. Ostermaier
  • Fonction : Auteur
G. Pozzovivo
  • Fonction : Auteur
J.F. Carlin
  • Fonction : Auteur
B. Basnar
  • Fonction : Auteur
W. Schrenk
  • Fonction : Auteur
A.M. Andrews
  • Fonction : Auteur
Y. Douvry
  • Fonction : Auteur
Jean-Claude de Jaeger
L. Toth
  • Fonction : Auteur
B. Pecz
  • Fonction : Auteur
M. Gonschorek
  • Fonction : Auteur
E. Feltin
  • Fonction : Auteur
N. Grandjean
G. Strasser
  • Fonction : Auteur
D. Pogany
  • Fonction : Auteur
J. Kuzmik
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00800884 , version 1 (14-03-2013)

Identifiants

Citer

C. Ostermaier, G. Pozzovivo, J.F. Carlin, B. Basnar, W. Schrenk, et al.. Improvements of high performance 2-nm-thin InAlN/AlN barrier devices by interface engineering. 30th International Conference on the Physics of Semiconductors, ICPS-30, 2010, Seoul, South Korea. pp.905-906, ⟨10.1063/1.3666669⟩. ⟨hal-00800884⟩
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