Communication Dans Un Congrès
Année : 2012
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00747743
Soumis le : jeudi 1 novembre 2012-15:21:45
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:56
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00747743 , version 1
Citer
Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Julien Ladroue, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson, et al.. Optimization of STiGer process used to etch high aspect ratio silicon microstructures. AVS 59th International Symposium and Exhibition, Oct 2012, Tampa, United States. ⟨hal-00747743⟩
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