Optimization of STiGer process used to etch high aspect ratio silicon microstructures - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00747743 , version 1 (01-11-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00747743 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Julien Ladroue, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson, et al.. Optimization of STiGer process used to etch high aspect ratio silicon microstructures. AVS 59th International Symposium and Exhibition, Oct 2012, Tampa, United States. ⟨hal-00747743⟩
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