Integration of titanium dioxide thin films deposited by PLD in RF and microwave MEMS : study of structure and dielectric properties - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Integration of titanium dioxide thin films deposited by PLD in RF and microwave MEMS : study of structure and dielectric properties

Jean-Christophe Orlianges
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
Aurelian Crunteanu
MINACOM
Arnaud Pothier
MINACOM
CV
Thérèse Merle-Méjean
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915588
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
Pierre Blondy
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915831
MINACOM
Corinne Champeaux
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV

Véronique Maury  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00735789

Soumis le : mercredi 26 septembre 2012-17:37:30

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00735789 , version 1 (26-09-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00735789 , version 1

Citer

Jean-Christophe Orlianges, Aurelian Crunteanu, Arnaud Pothier, Thérèse Merle-Méjean, Pierre Blondy, et al.. Integration of titanium dioxide thin films deposited by PLD in RF and microwave MEMS : study of structure and dielectric properties. European Material Research Society (E-MRS)- Spring Meeting, Symposium V,, May 2012, Strasbourg, France. Paper P1.43 - Présentation Poster. ⟨hal-00735789⟩

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