Integration of titanium dioxide thin films deposited by PLD in RF and microwave MEMS : study of structure and dielectric properties

Jean-Christophe Orlianges 1 Aurelian Crunteanu 2 Arnaud Pothier 2 Thérèse Merle-Méjean 3 Pierre Blondy 2 Corinne Champeaux 1
1 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
3 SPCTS-AXE3 - Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Document type :
Conference papers
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https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00735789
Contributor : Véronique Maury <>
Submitted on : Wednesday, September 26, 2012 - 5:37:30 PM
Last modification on : Tuesday, November 12, 2019 - 2:06:03 PM

Identifiers

  • HAL Id : hal-00735789, version 1

Citation

Jean-Christophe Orlianges, Aurelian Crunteanu, Arnaud Pothier, Thérèse Merle-Méjean, Pierre Blondy, et al.. Integration of titanium dioxide thin films deposited by PLD in RF and microwave MEMS : study of structure and dielectric properties. European Material Research Society (E-MRS)- Spring Meeting, Symposium V,, May 2012, Strasbourg, France. Paper P1.43 - Présentation Poster. ⟨hal-00735789⟩

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