Etude de matériaux nanostructurés pour leur très faible réflectance : couches de nanofils en silicium poreux - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Etude de matériaux nanostructurés pour leur très faible réflectance : couches de nanofils en silicium poreux

Résumé

Des nanofils verticaux en silicium poreux présentant une forte densité ont été élaborés sur substrat de silicium en utilisant un procédé électrochimique de gravure. Ces couches ont été observées par MEB et MET ce qui a permis d'en déduire que les nanofils de silicium poreux ont une forme conique. La réflectance de ces couches a été mesurée et est inférieure à 0.1% pour des épaisseurs supérieures à 10 µm. La réflectance de ces couches a été modélisée en utilisant le formalisme des matrices de transfert associé au modèle de Bruggeman et en considérant la forme conique observée de ces nanofils. Les résultats théoriques sont discutés et confirment ceux expérimentaux. La remarquable diminution de la réflectivité des ces couches montrent que les couches de nanofils en silicium poreux ont une forte potentialité comme couche antireflet pouvant être utilisée dans le domaine des cellules solaires.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00724455 , version 1 (21-08-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00724455 , version 1

Citer

Adel Najar, Joël Charrier, Parastesh Pirasteh, R. Sougrat. Etude de matériaux nanostructurés pour leur très faible réflectance : couches de nanofils en silicium poreux. 31èmes Journées Nationales d'Optique Guidée (JNOG 2012), Jul 2012, Lyon, France. pp.P7. ⟨hal-00724455⟩
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