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Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Deep etching of bulk titanium by plasma

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Thomas Tillocher  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00696425

Soumis le : vendredi 11 mai 2012-16:25:32

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:55

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00696425 , version 1 (11-05-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00696425 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Julien Ladroue, Wassim Kafrouni, Mukesh Kulsreshath, Philippe Lefaucheux, et al.. Deep etching of bulk titanium by plasma. 18th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), Jul 2011, Nantes, France. ⟨hal-00696425⟩

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