Communication Dans Un Congrès
Année : 2011
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00696422
Soumis le : vendredi 11 mai 2012-16:21:47
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00696422 , version 1
Citer
Wassim Kafrouni, Thomas Tillocher, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. STiGer process for silicon deep etching: extended scalloping reduction on submicron trenches. 18th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), Jul 2011, Nantes, France. ⟨hal-00696422⟩
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