Communication Dans Un Congrès
Année : 2010
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00696393
Soumis le : vendredi 11 mai 2012-15:43:41
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00696393 , version 1
Citer
Julien Ladroue, Mohamed Boufnichel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, et al.. Deep Inductively Coupled Plasma Etching of GaN. AVS 57th International Symposium & Exhibition, Nov 2010, Albuquerque, United States. ⟨hal-00696393⟩
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