Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of ZrO2: A Thermodynamic Approach. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of ZrO2: A Thermodynamic Approach.

J. Roy
  • Fonction : Auteur
Y. Mi
  • Fonction : Auteur
J. Zegenhagen
  • Fonction : Auteur
C. Martinet
C. Wyon
  • Fonction : Auteur
M. Gros-Jean
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00692284 , version 1 (29-04-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00692284 , version 1

Citer

E. Blanquet, D. Monnier, I. Nuta, F. Volpi, B. Doisneau, et al.. Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of ZrO2: A Thermodynamic Approach.. 219th ECS Meeting, May 2011, Montréal, Canada. ⟨hal-00692284⟩
74 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More