Vapor phase processes: From HTCVD processes for high rate epitaxial growth to ALD processes for conformal ultra thin film fabrication.

E. Blanquet (invitée) , A. Claudel (1) , V. Brizé (2) , R. Boichot (2) , D. Chaussende (3) , D. Pique (1) , A. Mantoux (2) , M. Pons (2)

1 ACERDE - Advanced CERamics Deposition
2 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
3 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

Domaines: Matériaux

E. Blanquet (invitée), A. Claudel, V. Brizé, R. Boichot, D. Chaussende, et al.. Vapor phase processes: From HTCVD processes for high rate epitaxial growth to ALD processes for conformal ultra thin film fabrication.. International Workshop on Wide Band Gap Semiconductor Nanostructures, Jan 2011, Chennai, India. ⟨hal-00692280⟩