Fabrication et caractérisation électrique de résistances à base de nanofils de silicium

Laurent Pichon (1, 2) , Fouad Demami (1, 2) , Régis Rogel (1, 2) , Tayeb Mohammed-Brahim (1, 2)

1 IETR - Institut d'Electronique et de Télécommunications de Rennes
2 CCMO - Pôle CNFM de Rennes, Centre Commun de Microélectronique de l'Ouest

Cet article présente des travaux pratiques sur la réalisation et la caractérisation électrique de résistances fabriquées à partir de nanofils de silicium polycristallin synthétisés à partir d'outils lithographiques conventionnels de la technologie silicium. Les résistances sont fabriquées en salle blanche puis caractérisées électriquement par mesures I-V.

Mots clés: technologies microélectroniques; salle blanche; nanofils de silicium; résistance; caractérisation électrique

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Laurent Pichon, Fouad Demami, Régis Rogel, Tayeb Mohammed-Brahim. Fabrication et caractérisation électrique de résistances à base de nanofils de silicium. Colloque sur l'Enseignement des Technologies et des Sciences de l'Information et des Systèmes, CETSIS-EEA 2011, 23 - 26 octobre 2011, Trois Rivières (Québec), CANADA., Oct 2011, Trois rivières, Canada. pp.11. ⟨hal-00671098⟩