Pulsed injection PE-MOCVD of Y2O3 layers for gate dielectric applications

C. Durand (1) , B. Pelissier (1) , Corentin Vallée (1) , M. Bonvalot (1) , L. Vallier (1) , O. Joubert (1) , C. Dubourdieu (2) , E. Gautier

1 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

C. Durand, B. Pelissier, Corentin Vallée, M. Bonvalot, L. Vallier, et al.. Pulsed injection PE-MOCVD of Y2O3 layers for gate dielectric applications. AVS 49th International Symposium, Nov 2002, Denver, United States. ⟨hal-00669571⟩