Communication Dans Un Congrès
Année : 2011
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00647608
Soumis le : vendredi 2 décembre 2011-13:28:35
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:17:31
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00647608 , version 1
Citer
S. Banna, A. Agarwal, T. Lill, Maxime Darnon, G. Cunge, et al.. Time-Modulation of High density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes. 4th Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop, May 2011, Mechelen, Belgium. ⟨hal-00647608⟩
73
Consultations
0
Téléchargements