Communication Dans Un Congrès
Année : 2010
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00644015
Soumis le : mercredi 23 novembre 2011-14:16:21
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:38
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00644015 , version 1
Citer
M. Fouchier, E. Pargon, L. Azarnouche, O. Luere, K. Menguelti, et al.. Study of the modifications induced by plasma VUV light on 193nm photoresist for the development of plasma cure treatments. 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC), Oct 2010, Paris, France. ⟨hal-00644015⟩
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