150-GHz RF SOI-CMOS technology in ultrathin regime on organic substrate

A. Lecavelier Des Etangs-Levallois , Emmanuel Dubois (1) , Marie Lesecq , Francois Danneville , L. Poulain , Y. Tagro , Sylvie Lepilliet , D. Gloria , C. Raynaud , David Troadec

1 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

A. Lecavelier Des Etangs-Levallois, Emmanuel Dubois, Marie Lesecq, Francois Danneville, L. Poulain, et al.. 150-GHz RF SOI-CMOS technology in ultrathin regime on organic substrate. IEEE Electron Device Letters, 2011, 32, pp.1510-1512. ⟨10.1109/LED.2011.2166241⟩. ⟨hal-00639864⟩