Plasma Pulsing for Atomic Layer Etching Application - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00625384 , version 1 (21-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00625384 , version 1

Citer

P. Bodart, C. Petit-Etienne, G. Cunge, L. Vallier, Maxime Darnon, et al.. Plasma Pulsing for Atomic Layer Etching Application. 3rd Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop, Mar 2010, Grenoble, France. ⟨hal-00625384⟩
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