Synchronous Plasma Pulsing For Etch Applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00625368 , version 1 (21-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00625368 , version 1

Citer

M. Haass, Maxime Darnon, E. Pargon, C. Petit-Etienne, L. Vallier, et al.. Synchronous Plasma Pulsing For Etch Applications. AVS 57th international symposium, Oct 2010, Albuquerque, United States. ⟨hal-00625368⟩
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