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Article Dans Une Revue ECS Trans Année : 2010

Synchronous Pulsed Plasma for Silicon Etch Applications

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00625292

Soumis le : mercredi 21 septembre 2011-11:45:50

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:38

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00625292 , version 1 (21-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00625292 , version 1

Citer

Maxime Darnon, C. Petit-Etienne, E. Pargon, G. Cunge, L. Vallier, et al.. Synchronous Pulsed Plasma for Silicon Etch Applications. ECS Trans, 2010, pp.27 (1), 717-723. ⟨hal-00625292⟩

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