Plasma Etching Process Scalability and challenges for ULK Materials
T. Chevolleau
(1)
,
N. Posseme
,
T. David
(1, 2)
,
R. Bouyssou
(1)
,
J. Ducote
,
F. Bailly
,
Maxime Darnon
(1)
,
H. Chaabouni
,
L.L. Chapelon
,
M. El Kodadi
(1)
,
M. Besacier
(1)
,
C. Licitra
,
C. Verove
,
O. Joubert
(1)
N. Posseme
- Fonction : Auteur
J. Ducote
- Fonction : Auteur
F. Bailly
- Fonction : Auteur
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
H. Chaabouni
- Fonction : Auteur
L.L. Chapelon
- Fonction : Auteur
C. Licitra
- Fonction : Auteur
- PersonId : 761212
- ORCID : 0000-0002-4309-3310
C. Verove
- Fonction : Auteur