Article Dans Une Revue
Journal of the American Chemical Society
Année : 2011
Colette Turck : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00622894
Soumis le : mardi 13 septembre 2011-08:43:37
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15
Citer
Claire Deeb, Carole Ecoffet, Renaud Bachelot, Jérôme Plain, Alexandre Bouhelier, et al.. Plasmon-based free-radical photopolymerization : effect of diffusion on nanolithography processes. Journal of the American Chemical Society, 2011, 133 (27), pp.10535-10542. ⟨10.1021/ja201636y⟩. ⟨hal-00622894⟩
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