How the deposition parameters influence the microstructure of metallic alloy thin films deposited by plasma magnetron sputtering? - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

How the deposition parameters influence the microstructure of metallic alloy thin films deposited by plasma magnetron sputtering?

Domaines

Plasmas

Pascal Brault  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00613859

Soumis le : dimanche 7 août 2011-00:20:09

Dernière modification le : mercredi 10 janvier 2024-14:24:27

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00613859 , version 1 (07-08-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00613859 , version 1

Citer

Vincent Dolique, Larbi Bedra, Anne-Lise Thomann, Pascal Brault. How the deposition parameters influence the microstructure of metallic alloy thin films deposited by plasma magnetron sputtering?. CIP 2011, Jul 2011, Nantes, France. http://vide.org/cip2011/fileadmin/document/CIP_11_program_poster.pdf. ⟨hal-00613859⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-ORLEANS GREMI
24 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More