Comparison of Radio Frequency Physical Vapor Deposition target material used for LaOx cap layer deposition in 32nm

S. Baudot , P. Caubet , M. Grégoire (1) , R. A. Bianchi , R. Pantel (2) , S. Zoll , M. Gros-Jean (3) , R. Boujamaa , P. Normandon , Cédric Leroux (4) , G. Ghibaudo (5)

1 UMS 831 - Services communs OMP
2 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
3 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
4 Lab-STICC - Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (UMR 3192)
5 IMEP-LAHC - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation

Domaines: Autre [cond-mat.other]

S. Baudot, P. Caubet, M. Grégoire, R. A. Bianchi, R. Pantel, et al.. Comparison of Radio Frequency Physical Vapor Deposition target material used for LaOx cap layer deposition in 32nm. Int. Conf. materials for advanced metallization, MAM 2010, 2010, Malines, Belgium. ⟨hal-00604574⟩