Caractérisation sur plaque de varicap MOS subfemtofarad en technologie silicium - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Caractérisation sur plaque de varicap MOS subfemtofarad en technologie silicium

R. Debroucke
  • Fonction : Auteur
J.F. Larchanche
  • Fonction : Auteur
D. Ducatteau
  • Fonction : Auteur
H. Tanbakuchi
  • Fonction : Auteur
Christophe Gaquière
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

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https://hal.science/hal-00574429

Soumis le : mardi 8 mars 2011-09:38:15

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00574429 , version 1 (08-03-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00574429 , version 1

Citer

R. Debroucke, J.F. Larchanche, D. Ducatteau, H. Tanbakuchi, Christophe Gaquière. Caractérisation sur plaque de varicap MOS subfemtofarad en technologie silicium. 11èmes Journées de Caractérisation Microondes et Matériaux, JCMM 2010, 2010, Brest, France. ⟨hal-00574429⟩

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