Communication Dans Un Congrès
Année : 2010
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https://hal.science/hal-00549973
Soumis le : jeudi 23 décembre 2010-09:51:10
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Citer
V. Passi, J.P. Raskin, F. Ravaux, Emmanuel Dubois. Backgate bias and stress level impact on giant piezoresistance effect in thin silicon films and nanowires. 23rd IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems, MEMS 2010, 2010, China. pp.464-467, ⟨10.1109/MEMSYS.2010.5442464⟩. ⟨hal-00549973⟩
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