Conformité, microstructure et purété de films d'aluminium déposés sur substrats de Si patternés. Etude comparative selon le procédé de dépôt : pulvérisation plasma, ablation laser, dépôt chimique en phase vapeur

N. Shaharil (1) , R. Blanc (1) , N. Prud'Homme (1) , Amaël Caillard (1) , Eric Millon (1) , Anne Lise Thomann (1) , Pascal Brault (1) , Constantin Vahlas (2) , Alain Pineau (3)

1 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
2 CIRIMAT - Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux
3 CRMD - Centre de Recherche sur la Matière Divisée

Domaines: Plasmas

N. Shaharil, R. Blanc, N. Prud'Homme, Amaël Caillard, Eric Millon, et al.. Conformité, microstructure et purété de films d'aluminium déposés sur substrats de Si patternés. Etude comparative selon le procédé de dépôt : pulvérisation plasma, ablation laser, dépôt chimique en phase vapeur. Materiaux 2010, Oct 2010, NANTES, France. pp.résumé 0235. ⟨hal-00540019⟩