DC magnetron sputtering deposition and characterisation of gold oxide thin films

Vincent Dolique; Pascal Brault

Communication Dans Un Congrès Année : 2010

DC magnetron sputtering deposition and characterisation of gold oxide thin films

(1) , (1)

1

Vincent Dolique

Fonction : Auteur
PersonId : 1333804
IdHAL : vincent-dolique
ORCID : 0000-0001-5644-9905
IdRef : 115855297

Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

CV

Pascal Brault

Fonction : Auteur
PersonId : 2852
IdHAL : pascalbrault
ORCID : 0000-0002-8380-480X
IdRef : 032109075

Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

CV

Domaines

Plasmas

Pascal Brault : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00539854

Soumis le : jeudi 25 novembre 2010-12:37:36

Dernière modification le : mercredi 10 janvier 2024-14:24:27

Dates et versions

hal-00539854 , version 1 (25-11-2010)

Identifiants

HAL Id : hal-00539854 , version 1

Citer

Vincent Dolique, Pascal Brault. DC magnetron sputtering deposition and characterisation of gold oxide thin films. PSE 2010 - 12th International Conference on Plasma Surface Engineering, Sep 2010, Garmisch-Partenkirchen, Germany. pp.399. ⟨hal-00539854⟩

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