A two steps CVD process for the growth of silicon nano-crystals - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2003

A two steps CVD process for the growth of silicon nano-crystals

F. Mazen
  • Fonction : Auteur
T. Baron
Laboratoire des technologies de la microélectronique
A.M Papon
  • Fonction : Auteur
R. Truche
  • Fonction : Auteur
J.M Hartmann
  • Fonction : Auteur

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00477200

Soumis le : mercredi 28 avril 2010-13:55:56

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:25

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00477200 , version 1 (28-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00477200 , version 1

Citer

F. Mazen, T. Baron, A.M Papon, R. Truche, J.M Hartmann. A two steps CVD process for the growth of silicon nano-crystals. Applied Surface Science, 2003, pp.214, 359-363. ⟨hal-00477200⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS FMNT LTM NANOMATERIALS
50 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More