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A simple method for measuring Si-Fin sidewall roughness by AFM
J.P. Raskin
Author
Emmanuel Dubois 1
Author Employer institution : Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 IdHAL : emmanuel-dubois-iemn ORCID : https://orcid.org/0000-0002-0347-010X
B. Nysten
Author
1
IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 ([Univ. Lille, CNRS, Ecole Centrale Lille, Yncréa-ISEN, UVHC] ––
Laboratoire Central – Cité Scientifique – Avenue Poincaré – CS 60069 – 59652 VILLENEUVE D’ASCQ CEDEX - France)
- Centrale Lille (École Centrale de Lille - Cité Scientifique - CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN) (France)
- UVHC - Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
- Université de Lille (Lille - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8520 (France)
- UPHF - Université Polytechnique Hauts-de-France (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
Document type :
Journal articles
Complete list of metadata
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00471972
Contributor : Collection Iemn Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Friday, April 9, 2010 - 11:08:33 AM
Last modification on : Wednesday, March 23, 2022 - 3:50:23 PM
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Last modification on : Wednesday, March 23, 2022 - 3:50:23 PM
Identifiers
- HAL Id : hal-00471972, version 1
- DOI : 10.1109/TNANO.2009.2021064
Collections
IEMN | CNRS | UNIV-LILLE | UNIV-VALENCIENNES
Citation
X.H. Tang, V. Bayot, N. Reckinger, D. Flandre, J.P. Raskin, et al.. A simple method for measuring Si-Fin sidewall roughness by AFM. IEEE Transactions on Nanotechnology, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2009, 8, pp.611-616. ⟨10.1109/TNANO.2009.2021064⟩. ⟨hal-00471972⟩
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